◆最新指标 (2024年4月股权激励后)◆ |
每股收益(元) :0.4018 |
目前流通(万股) :62007.33 |
每股净资产(元) :28.9132 |
总 股 本(万股) :62007.33 |
每股公积金(元) :21.6133 |
营业收入(万元) :160502.41 |
每股未分配利润(元) :6.1603 |
营收同比(%) :31.23 |
每股经营现金流(元) :-0.9458i |
净利润(万元) :24913.58 |
净利率(%) :15.50 |
净利润同比(%) :-9.53 |
毛利率(%) :44.94 |
净资产收益率(%) :1.38 |
◆上期主要指标◆ | ◇2023末期◇ |
每股收益(元) :2.8900 |
扣非每股收益(元) :1.9239 |
每股净资产(元) :28.7853 |
扣非净利润(万元) :119143.48 |
每股公积金(元) :21.5047 |
营收同比(%) :32.15 |
每股未分配利润(元) :5.7659 |
净利润同比(%) :52.67 |
每股经营现金流(元) :-1.5775 |
净资产收益率(%) :10.72 |
毛利率(%) :45.83 |
净利率(%) :28.48 |
◆ 公司概要 ◆
◆控盘情况◆
2024-03-31 | 2024-02-29 | 2023-12-31 | 2023-09-30 | |
股东人数 (户) | 36158 | 38854 | 37691 | 42733 |
人均持流通股(股) | 17127.0 | 15938.6 | 16430.4 | 14466.5 |
人均持流通股 (去十大流通股东) | 8568.8 | - | 8448.3 | 7458.8 |
点评: |
2024年一季报披露,前十大股东持有30953.54万股,较上期增加434.15万股,占总股本比49.98%,主力控盘强度一般。 截止2024年一季报合计373家机构,持有41499.57万股,占流通股比67.01%;其中360家公募基金,合计持有17377.44万股,占流通股比28.06%。 股东户数36158户,上期为38854户,变动幅度为-6.9388% |
◆概念题材◆
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【高端半导体设备及泛半导体设备制造商】公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。公司瞄准世界科技前沿,基于在半导体设备制造产业多年积累的专业技术,涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。公司主要为集成电路、LED外延片、功率器件、MEMS等半导体产品的制造企业提供刻蚀设备、MOCVD设备、薄膜沉积设备及其他设备。另,公司注册地址为:上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号。
更新时间:2024-03-19 14:31:26
更新时间:2024-03-19 14:31:26
【董事长提议3亿元-5亿元回购股份】2024年2月,公司董事长尹志尧先生提议通过集中竞价交易方式进行股份回购。回购的股份拟在披露回购结果暨股份变动公告的12个月后采用集中竞价交易方式出售。回购股份的资金总额:不低于人民币30,000万元(含),不超过人民币50,000万元(含)。回购股份的价格:不高于公司董事会审议通过回购方案决议前30个交易日公司股票交易均价的150%,具体以董事会审议通过的回购方案为准。回购期限:自公司董事会审议通过本次回购股份方案之日起3个月内。
更新时间:2024-03-19 14:31:22
更新时间:2024-03-19 14:31:22
【ICP 刻蚀设备】公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上量产,并持续进行更多刻蚀应用的验证。ICP刻蚀设备中的PrimoNanova系列产品在客户端安装腔体数近三年实现>100%的年均复合增长。公司ICP技术设备类中的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备PrimoTSV200E、PrimoTSV300E在晶圆级先进封装、2.5D封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单的同时,在12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证,并在欧洲客户12英寸微机电系统芯片产线上获得认证的机会,这些新工艺的验证为公司PrimoTSV300E刻蚀设备拓展了新的市场。在追求更高性能的同时,根据国内对成熟制程和新兴特殊器件的工艺需求,公司开发了PrimoMetalAl刻蚀设备,并在实验室搭建了Alpha机台,开始和客户合作开发铝线刻蚀工艺。
更新时间:2024-03-19 14:31:16
更新时间:2024-03-19 14:31:16
【薄膜沉积设备研发】公司新开发出4款薄膜沉积产品。公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估,已通过客户现场验证,满足金属互联钨制程各项性能指标,并获得客户重复量产订单。公司在CVDW设备基础上,进一步开发出新型号HAR(高深宽比)W钨设备及ALDW钨设备,这两项设备均为高端存储器件的关键设备,目前已通过客户现场验证,满足存储器件中的高深宽比金属互联应用中各项性能指标。中微公司钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用,并已全部通过客户现场验证。同时公司已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALDW钨设备的验证,并取得了客户订单,为进一步积累市场优势打下基础。同期,公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛设备也在稳步推进,实验室测试结果显示,设备的薄膜均一性和产能均表现出世界领先水平。
更新时间:2024-03-19 14:31:13
更新时间:2024-03-19 14:31:13
【MOCVD 设备】公司用于蓝光照明的PRISMOA7、用于深紫外LED的PRISMOHiT3、用于Mini-LED显示的PRISMOUniMax等产品持续服务客户。截止2023年,公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位。其中PRISMOUniMax产品自2021年6月正式发布以来,凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点,受到下游客户的广泛认可,在Mini-LED显示外延片生产设备领域处于国际领先。公司于2022年推出了用于氮化镓功率器件生产的MOCVD设备PRISMOPD5,已付运至国内外领先客户,并取得了重复订单。同时,公司也紧跟市场发展趋势,布局行业前沿,针对Micro-LED应用的专用MOCVD设备开发顺利,实验室初步结果实现了优良的波长均匀性能,并付运样机至国内领先客户开展生产验证。公司也启动了应用于碳化硅功率器件外延生产设备的开发,公司取得较大的技术进展,实现了优良的工艺结果,正与多家领先客户开展商务洽谈,预计2024年第一季度将开展客户端生产验证。
更新时间:2024-03-19 14:31:10
更新时间:2024-03-19 14:31:10
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查看个股历史成交回报数据
◆成交回报(单位:万元)◆
交易日期:2022-10-10 披露原因:跌幅达15%的证券
当日成交量(万手):18.46 当日成交额(万元):168523.94 成交回报净买入额(万元):-29545.28
营业部或交易单元名称 | 买入金额(万元) | 卖出金额(万元) |
---|---|---|
沪股通专用 | 19875.88 | 30372.14 |
华泰证券股份有限公司总部 | 3862.62 | 0 |
机构专用 | 2364.28 | 0 |
机构专用 | 1714.90 | 0 |
机构专用 | 1710.99 | 0 |
买入总计: 29528.67 万元 |
营业部或交易单元名称 | 买入金额(万元) | 卖出金额(万元) |
---|---|---|
沪股通专用 | 19875.88 | 30372.14 |
机构专用 | 0 | 9561.28 |
机构专用 | 0 | 8913.91 |
机构专用 | 0 | 5202.68 |
瑞银证券有限责任公司上海花园石桥路证券营业部 | 0 | 5023.94 |
卖出总计: 59073.95 万元 |
◆董秘爆料◆
最新指标说明
最新指标以上市公司的最新数据为准,单位:以股计算
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其他权益工具
红利总额
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资本公积金转增总额
发行数量转股本金额
募集资金净额
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未分配利润
红利总额
送股总额
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经营活动产生的现金流量净额
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